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讲述真空镀膜加工工艺
编辑:中山市天元真空设备技术有限公司   发布时间:2018-08-04

根据真空镀膜气相金属产生和沉积方式,塑料真空镀膜加工的主要方法是分为热蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。


蒸发真空镀膜加工

真空蒸发镀膜就是在1.3x10-2~1.3x10-3pa(10-4~10-5Torr)的真空中以电阻加热镀膜材料,使它在极短时间内蒸发,蒸发了的镀膜材料分子沉积在基材表面上形成镀膜层。真空镀膜室是使镀膜材料蒸发的蒸发源,还有支承基材的工作架或卷绕装置都是真空蒸发镀膜设备的主要部分。镀膜室的真空度、镀膜材料的蒸发速率、蒸发距离和蒸发源的间距,以及基材表面状态和温度等都是影响镀膜层质量的因素。


磁控溅射

磁控溅射又称高速低温溅射法。目前磁控溅射法已在电学膜、光学膜和塑料金属化等领域得到广泛应用。磁控溅射法是在1.3x10-1pa(10-3 Torr)左右的真空中充入惰性气体,并在塑料基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电,由于辉光放电产生的电子激发惰性气体,产生等离子体。等离子体将金属靶材的院子轰出,沉积在塑料基材上。


蒸发镀膜与磁控溅射镀膜的比较

磁控溅射镀膜与蒸发镀膜相比,具有镀膜层与基材的结合力强,镀膜层致密、均匀等优点。真空蒸发镀膜需要使金属或金属化学物蒸发气化,而加热温度又不能太高,否则气相蒸镀金属会烧坏被镀塑料基材,因此,真空蒸镀一般仅适用于铝等熔点较低的金属源,是目前应用较为广泛的真空镀膜工艺。相反,溅射镀膜是利用高压电场激发产生等离子体镀膜物质,适用于几乎所有高熔点金属、合金及金属化合物镀膜源物质,如铬、钼、钨、钛、银、金等。而且它是一种强制性的沉积过程,采用该法获得的镀膜层与基材附着力远高于真空蒸镀,镀膜层具有致密、均匀等优点,加工成本也相对较高。

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